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光刻板1
光刻板2
手动光刻版
光刻板1
光刻板2
手动光刻版

手动光刻版清洗机

该设备用于半导体器件制程中光刻版湿法清洗工艺。

产品描述


  1. 材质:Si/SIO2

  2. 明度:兼容透明/半透明/不透明wafer

  3. 摆臂扫描范围及速度,升降高度:可设置

  4. 晶圆传输方式:人工手动传片,干进干出。

  5. 晶圆传输方式:人工手动传片,干进干出。

  6. 光刻版规格:9吋。

  7. 材质:Si/SI02

  8. 整机机架:1套

  9. 清洗干燥单元:1套,C1

  10. 不锈钢骨架,外壳pp

  11. 机台配照明装置

  12. 设备安全保障措施

  13. 机台配防水底托

  14. 设备支撑:防腐脚轮,支撑地脚

  15. 设备电控区、管路区、槽体安装区均设维护门。

  16. 排风口:配整机排风口和腔体局部排风口。

  17. 排风可手动分量。

产品参数


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