陈经理 1807027586 
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全自动去光阻/有机清洗机
光阻作用在IC制造的光置掩模，用于蚀刻，注入等工艺，使命完成后加以去除干净。
产品描述
全机台不锈钢骨架/槽体/外壳烧焊/漏水测试全自主制造，不外包超音波槽采双频40/8OKhz三频机40/80/120Khz
各自功率不打折扣,实现全方位去胶实力
机械手臂有主动式防撞及防叠货安全设计 兼容(4"/6\ 678"、8712")晶圆，一机多功能 支持GEMS/SECS软体自动化要求。
产品参数
| 序 号 | 设备型号名称 | 数量 | 单台设备组成部件 | 设备外形尺寸（mm） | 备注 | |||
| 部件名称 | 数量 | |||||||
| 1 | 全自动去光阻清洗机 | 1 | 设备主机 | 1 | L2200*W1500*H2000 以实际设计尺寸为准 | 不锈钢机架 | ||
