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无掩膜光刻机
无掩膜光刻机是一款专为微纳米加工与基础科研开发设计的高精度紫外直写系统.该设备采用数字微镜器件 (DMD) 技术, 替代传统掩膜, 实现图案的数字化直接曝光, 无需制版, 极大降低了实验成本并提升了设计灵活性.
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产品描述
设备具备高达0.4μm的最小特征分辨率, 支持6英寸晶圆或衬底样品的自动步进曝光. 集成激光主动对焦系统, 能够实时追踪样品高度变化, 确保多步图形对准精度和焦距一致性, 满足微纳结构高一致性加工的需求.
产品参数
特征尺寸: 0.4μm
最小等间距线栅: 0.8μm
光刻效率: 镜头①：2 mm2/min 镜头②：10 mm2/min 或 镜头①：10 mm2/min 镜头②：60 mm2/min
套刻精度(5mm x 5mm): 350 nm
套刻精度(50mm x 50mm): 700 nm
光源*: LED: 405 nm / 390 nm
电动镜头切换: 支持
灰度光刻: 不支持
样品尺寸: 3mm x 3mm (最小) , 150mm x 150mm (最大)
样品厚度: 0-10 mm
数据格式: GDS, DWG, DXF
设备主体尺寸( 长 X 宽 X 高): 1000mm x 1000mm x 2100mm
设备重量: 597 kg/ 606 kg
安装要求: 总占地面积 : 2.2m x 1.7m
功率 : 1.4Kw
温度 : 20-40℃
湿度: RH < 60%
电源: 230 VAC ±5 %, 50/60 Hz, 10A
